Research
湯郷研究室では現在、ダイヤモンド薄膜の合成、電子デバイスへの 応用の研究を行なっております。スタッフをみても分かるとおり、 他の研究室と比べて非常に小人数です。したがって、個々の能力が 最大限発揮できると同時に、自分で何でもやらなければなりません。 話しは逸れましたが、具体的な研究内容は以下のとおりです。
ダイヤモンドの写真
バイアス処理によるヘテロエピタキシャル成長とその核発生メ カニズムの解明→
湯郷研でのヘテロエピタキシャル成長モデル
選択成長
ダイヤモンド成長中の不純物ドーピングによる半導体化
新しい前処理法の開発
バイアス処理によるヘテロエピタキシャル成長とフィールドエミッタ、STM、AFM探針への応用等
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石垣
「光電気化学分解電極としてのダイヤモンド薄膜の研究」
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曽根
プラチナ基板上ダイヤモンドの研究
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曽根
MOPAC を用いたダイヤモンドの研究
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平原
ダイヤモンドプロジェクト in CVD
TEM(透過型電子顕微鏡)試料作製マニュアル
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