各種公募情報

新学術領域研究「原子層科学」博士研究員募集

新学術領域研究「原子層科学」博士研究員募集

新学術領域研究「原子層科学」(平成25年度〜29年度)では、以下の要領で、博士研究員3名を募集します。 これまでの経験は問いませんが、プロジェクトの全体の発展への貢献をしていただくことを期待します。 皆様のご応募をお待ちしております。

1. 公募人員 3名。

下記の募集枠ごとに 1 名ずつ選考、採用を行う。 研究代表者の所属する下記の機関もしくは研究分担者の所属する機関で研究に従事する。 東北大学(1名)、東京大学(1名)、名古屋大学(1名)

2. 職務内容
原子層科学に関する実験または理論的研究。領域研究推進のための業務も含む。

3. 応募資格
博士号取得者。ただし,着任までに博士号取得が確実に見込まれるものも含む。

4. 任期
平成28年4月1日から平成30年3月31日まで。
採用後約1年後(平成 29 年 2 月を予定)に、中間審査と評価を行う。

5. 着任予定日
平成 28 年 4 月 1 日以降の出来る限り早い時期。

6. 給与体系
研究機関の規定によるが、予算上の上限(年間480万円)以内とする。

7. 選考方法
下記の募集枠から第 1 志望を決めて応募する。複数枠の志望も認めるが、志望順 位を明記すること。選考は領域総括班が一括して行う。書類審査と面接を行い,志望 順位を勘案した上で募集枠ごとに 1 名を決定する。なお,領域総括班による面接の前に、各募集枠の受入代表者等による事前面接を行うことがある。

8. 各募集枠の受入研究機関と研究者、職務内容

X00(総括班) 東北大学大学院理学研究科 齋藤 理一郎
研究題目:「原子層科学の理論的研究。領域推進に関する作業の補助」
内容：グラフェンや原子層物質の電子状態、光物性、などの理論的研究。領域全体の運営における領域代表者をサポートする作業。これまでの経験は問わないが、コンピュータ全般(Linux、プログラミング)にかけて知識があることが望ましい。

A01(合成班) 名古屋大学エコトピア科学研究所 楠 美智子
研究題目:「グラフェン関連原子層の新規合成法および大面積合成法の開発」
内容：グラフェンを中心とした原子層構造を有する物質の合成法の探索と大面積 合成法の確立。また、新学術領域研究の市民講演会など社会貢献活動に対する補助作業を行う。これまでの経験は問わないが、プロジェクトの全体の発展への貢献を期待する。

A02(物性班) 東京大学物性研究所 長田 俊人
研究題目:「原子層の量子物性測定と新規物性探索」
内容：グラフェン等の原子層物質(を積層した複合原子層)の作製と、低温強磁場 下の電気伝導測定による電子物性の実験的研究。また、本領域の若手研究者の育成・交流・支援に関する活動の補助を行う。これまでの経験は問わないが、プロジェクトの全体の発展への貢献を期待する。

9.提出書類
(1)履歴書(書式自由)
(2)発表論文リスト(書式自由)
(3)主な論文の別刷り(3編以内)
(4)これまでの研究業績(様式自由。2,000字以内)
(5)今後の研究計画と本新学術領域計画との関連性(様式自由。 2,000字以内)
(6)指導教員、または推薦者による本人に関する意見書

なお, 英語での応募も受け付ける。

10.応募締め切り

平成28年1月20日(水) 23時 電子メール必着

11. 書類提出先
応募書類は、推薦書以外 1 つのFolder(フォルダー名は申請者名)にまとめ、圧縮後、 第 1 希望の募集枠の受入研究者へ電子メールにて送信すること。 (応募情報は総括班内で共有されるので第 2 希望以降がある場合も別個に送付する必要はない。) 推薦書は、推薦者から電子メールで同じ宛先に送付されること。

12. 各募集枠・受入研究者の連絡先
応募に当たっては,職務内容などを理解いただくため、希望する募集枠の受入研究者とあらかじめ直接コンタクトすることを強く推奨します。受入研究者の連絡先は下記のとおりです。

X00 齋藤 理一郎 東北大学大学院理学研究科
rsaito_atmark_flex.phys.tohoku.ac.jp

A01 楠 美智子 名古屋大学エコトピア科学研究所
kusunoki_atmark_esi.nagoya-u.ac.jp

A02 長田 俊人 東京大学 物性研究所
osada_atmark_issp.u-tokyo.ac.jp

13.公募全般に関する問い合わせ先

メールでお問い合わせください。お電話でお返事する場合もございますので、電話番号を明記ください。
〒980-8578 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉 6-3　
東北大学大学院理学研究科物理学専攻
齋藤 理一郎
e-mail: rsaito_atmark_flex.phys.tohoku.ac.jp

14. 領域 Webページ
http://flex.phys.tohoku.ac.jp/gensisou/(日本語)
http://flex.phys.tohoku.ac.jp/satl/ (英語)

新学術領域研究「原子層科学」第２回公募研究のご案内

原子層科学にご理解くださいまして、感謝いたします。 本新学術領域「原子層科学」は、10月の科研費公募申請時 に第２回公募研究を公募いたします。科研費の申請の手続き にも公開されますが、あらかじめ研究概要を公開いたします。

領域略称名： 原子層
領域番号： 2506
設定期間：平成25年度~平成29年度
領域代表者： 齋藤理一郎
所属機関：東北大学大学院理学研究科

本領域は、グラフェン、シリセンや六方晶窒化ホウ素、遷移金属ダイカルコゲナイドやリン、酸化物などの金属、半導体、絶縁 体原子層とその複合系を対象とし、物理、化学、工学の分野を有機的に連携させ、既存の学問分野の枠を超えた融合領域の創成を 目指す。本領域の研究の進展を踏まえ、今回の公募研究では新たな研究目標として、(1)新規原子層及び複合原子層の合成法提案、 (2)原子層超伝導体、バレートロニクスなどの物性探求、(3)複合原子層のデバイス設計、(4)複合原子層物質の理論または新規物性 の理論構築、の４つを設定する。特に、複数種の原子層を組み合わせた複合原子層設計、合成、評価、理論を強く推進する。 本領域への公募研究の応募に当たっては、領域内外の研究者間の共同による横断プロジェクト（国際共同研究を含む）による研 究計画を明記していることが望ましい。なお、応募の上限額は実験と理論で区別しない。 また、具体的な共同研究の計画（誰と、どのような。実績がある場合は実績を含む。）、及び領域に何が貢献できるか（いつ、ど のような）を具体的に研究計画調書に記載することが望ましい。

（研究項目）
A01:（合成）原子層および複合原子層合成。原子層試料の提供。
A02:（物性）原子層構造の新規物性探索。原子層加工・制御法。
A03:（応用）原子層デバイス及び複層化のプロセス技術。原子層デバイスの応用研究。
A04:（理論）原子層系の理論設計、第一原理計算、新規物性の探索・提案。

公募研究の採択目安件数は、単年度当たり（１年間）の応募額300万円を上限とする研究を12件、応募額200万円を上限とする研究を15件程度予定している。


公開先：
Web：http://flex.phys.tohoku.ac.jp/gensisou/
Facebook: 原子層科学

本領域では、進行中の領域内との共同研究もしくは国際共同 研究実績（または計画）の有無を重視しています。申請前に 具体的な計画を作りご提案することを希望いたします。

質問などは、上記Webのメンバーのどなたにでもすることができます。

皆様からの応募を心よりお待ちしています。

領域代表：齋藤　理一郎（東北大学　理学研究科）
　　　　　rsaito@*** ***=flex.phys.tohoku.ac.jp

２０１５年度　春季グラフェンを中心とする二次元物質を対象とする材料・科学・工学に関する 国際研究集会等への助成事業のご案内

RPGR2013 国際会議組織委員会、財団法人 青葉工学振興会では、 グラフェンの最近の発展に関する国際会議(5th International Conference on Recent Progress in Graphene Research(RPGR 2013))運営費余剰金を 一般財団法人青葉工学振興会へ奨学寄附金として寄附し、グラフェンを 中心とする二次元物質を対象とする材料・科学・工学分野の今後の発展に 資するべく、以下の助成を行うことになりました。 ご興味のある方はご連絡いただければ幸いです。

a．研究集会参加に対する助成事業 (2015年度、7件、各20万円程度)
（１） 海外における国際研究集会へ研究成果の発表を目的として出席する者の渡航費用の全額もしくは一部を助成する。
（２） 海外における国際研究集会へ当該集会の主催者側から必要と認められて招聘される者の渡航費用の全額もしくは一部を助成する。

b．研究集会企画開催に対する助成事業 (2015年度、1件、150万円程度)
グラフェンおよび関連する領域における基礎研究または応用研究を対象として企画・開催される研究集会にかかる公的な経費の一部を助成する。

1. ２０１５年度　運営委員会　委員
　榎　　敏明　　　東京工業大学
　長谷川雅考　　　産業技術総合研究所
　久保　孝史　　　大阪大学
　若林　克法　　　物質・材料研究機構
　尾辻　泰一　　　東北大学

2. 連絡先　
　榎　　敏明 　Email: tenokih@***
　　　　　　　　　　　　　　　*** = kuf.biglobe.ne.jp

3．応募書類提出先
　　〒980-8577 仙台市青葉区片平２−１−１
　　東北大学 電気通信研究所 尾辻泰一研究室内
　　グラフェン関連科学技術助成 担当 宛
　　E-mail： otsuji@riec.tohoku.ac.jp

4. 2015年度春季助成申請書の締切
　　2015年3月20日（水）　必着

5. 募集要項、応募書類のダウンロード
(1)募集要項の ダウンロード (docx) (pdf)
(2) 応募書類の 様式1-1 (docx) (pdf)
(3) 応募書類の 様式1-2 (docx) (pdf)

　

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