Research

湯郷研究室では現在、ダイヤモンド薄膜の合成、電子デバイスへの応用の研究を行なっております。スタッフをみても分かるとおり、他の研究室と比べて非常に小人数です。したがって、個々の能力が最大限発揮できると同時に、自分で何でもやらなければなりません。話しは逸れましたが、具体的な研究内容は以下のとおりです。

ダイヤモンドの写真　
バイアス処理によるヘテロエピタキシャル成長とその核発生メカニズムの解明→ 湯郷研でのヘテロエピタキシャル成長モデル
選択成長
ダイヤモンド成長中の不純物ドーピングによる半導体化
新しい前処理法の開発
バイアス処理によるヘテロエピタキシャル成長とフィールドエミッタ、STM、AFM探針への応用等 → 石垣
「光電気化学分解電極としてのダイヤモンド薄膜の研究」 → 曽根
プラチナ基板上ダイヤモンドの研究 → 曽根
MOPAC を用いたダイヤモンドの研究 → 平原
ダイヤモンドプロジェクト in CVD
TEM(透過型電子顕微鏡)試料作製マニュアル