イオン注入法とは...

数keVから数MeVに加速したイオンを個体に照射して、不純物ドー ピングや個体表面の物性、材料合成などを行う方法である。

特長

不純物濃度および深さ方向分布が正確に制御できる。

ドープされる不純物の純度が高い。

非熱平衡プロセスであり、拡散係数、固溶度などの熱力学的 パラメータに制限されず、任意の不純物を短時間で注入できる。

イオン注入装置の概略図